随着中美科技竞争的不断升温，“中国芯”的突破成了国人们最为关切的焦点之一。而在国产芯片崛起的道路上，EUV光刻机这项核心制造设备绝对是最大的“绊脚石”。
全球能生产EUV光刻机的只有荷兰光刻巨头ASML一家，但由于它的产线含有超过20%的美国技术零件，处在出口管制规则之内，以至于我们进口EUV设备的路被彻底堵死。
众所周知，“一代芯片、一代设备”是半导体行业的共识，没有设备的支撑，无异于“巧妇难为无米之炊”。所以，中国芯崛起的前提是，我们必须先打破EUV等核心设备的垄断。
为此，中科院主动请缨，接过重任，并成立EUV专项技术攻关科研小组，誓要在最短的时间内，扫清“中国芯”发展路上的一切技术障碍。
不过，荷兰光刻巨头ASML却立刻泼来冷水，大言不惭地说道：即便给中国图纸，他们也造不出来。
但没想到打脸来的这么快，唐传祥教授带领清华科研团队突破EUV光源的消息很快就传到了海外，而且还登上了国际科技期刊，《自然》。
光源是EUV设备的三大核心技术之一，打破了光源技术的垄断，意味着我们在高精度光刻设备的研发上成功了三分之一。
目睹我国EUV技术研发的破冰，ASML对我们的态度也相应有了微妙的改变，或许是担心未来被排除在我国光刻市场之外，它开始多次示好。
不过，ASML虽然不再表示我们造不出EUV，但却依然在变相地传达着EUV自研非常难的观点，表示：中国将在十五年内，独自造出EUV光刻机，并实现EUV产线上所有技术配件的自主可控。
或许是深知EUV的精密复杂，ASML才会说出15年这个期限，而且吴汉明院士也有类似的观点，认为EUV是全球智慧的结晶，凭我们一己之力进行研发，是不现实的。但是ASML显然是低估了中国科学家们的实力以及攻坚的毅力额，而且我们也等不了十五年这么久。
或许ASML也没料到，我国在EUV其他两项核心方面的突破会来的这么快。
不仅华卓精科打破了双工件台系统的垄断，而且中科院自研的首台高能辐射光源也快速步入了安卓应用阶段，现阶段工程量已完成了约80%，可以说是落地在即了。结合中科科美的直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，国产光学镜头的难题也彻底被解决了。
综合来看，在EUV三大核心技术均已破冰，中科院也兑现了自己的诺言！不过，国产高精度光刻机的落地应用，还需解决外界所说的十万个精密零件的难题。
虽然这些供应这些零件的厂商遍及全球，超过了5千家，而且多数还是美企，但这对于拥有庞大制造市场的中国来说，并不是什么遥不可及的大问题。“航母”的零件那么多，我们都搞得定，何况EUV的零件呢？
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