要说起国内芯片领域的代表者，中芯国际可能首先会出现在大部分人的脑海中，确实现如今中芯国际承载了国人太多的期望，尤其是针对7nm芯片的生产制造，大家更是时时关注，最近梁孟松对此有了新的回应。
针对7nm芯片，梁孟松正式回应
在全世界范围内，目前三星和台积电，都已经实现了对7nm芯片的生产制造，纷纷进入到了更高级别芯片技术的研究，即便是稍稍有些落后的英特尔，现在关于7nm芯片，也有了明确的量产时间，那就是计划到明年的时候就会实现自主生产。
芯片生产制造领域的大多数代表企业，都在7nm方面有了重大突破，但国内的中芯国际在这之中则显得有些默默无闻，早前相关负责人就公开对外表示，公司现在已经攻克了7nm芯片工艺，用不了多长时间便会进入到风险试产阶段，但之后也没有相关的新动态了。
之所以迟迟未实现量产，也主要是因为美国的限制，导致没有高端光刻机的供应，一时间发展陷入两难境地，至此大家也在纷纷担心中芯国际今后的生存处境。
对此梁孟松有了新的回应，按照他的相关说法，芯片的发展没有捷径可以走，也没有所谓的弯道可以超车，只能按部就班地进行，只是7nm现在的发展节点有些特殊，但中芯国际并不会就此放弃7nm芯片，目前公司内部也有相关的发展计划。
N+1量产中，N+2年底试产
总之根据梁孟松的此次回应，说明他对中芯国际还是充满信心的，大家也不必太过担心，那现如今公司内部的发展情况究竟如何呢？是否有机会可以在今年实现对7nm芯片的大突破呢？
其实现在中芯国际已经取得了明显的成就，只是因为说法不同，所以在大家看来似乎没有太大的进展，针对台积电和三星对外宣布的技术水平，其实也并不严谨，就比如说英特尔的10nm技术，在一定程度上可以和台积电的7nm相抗衡，所以说内部标准不一样，发展结果也是截然不同的。
对于中芯国际而言，想要实现对7nm的大突破，现如今也不会太遥远，毕竟N+1工艺芯片已经在量产中，N+2工艺按照公司计划，将会在2021年年末的时候试产。
而N+1、N+2与7nm芯片又有什么关系呢？其实在一定程度上公司内部已经将它们视为7nm芯片，因为在很多方面，它们之间有着很大的相似之处。
对于任何一款芯片，我们比较关注的就是它的稳定性、性能、功耗等各个方面，根据相关信息，N+1技术与14nm芯片相比较，性能方面提升了20%，功耗则大大降低了57%，逻辑面积也减少了63%左右，总之各项指标都在向7nm靠拢，但并不完全相同，性能方面还有着些许差距。
N+2技术则是N+1的升级版，所以也就意味着在各方面都会有一个进步，尤其是在性能方面，更会大大提升，弥补N+1的不足之处。
7nm芯片或会在N+2之后发展
可能很多朋友看到这里，会有这样的疑问：那就是既然N+1和N+2在很多方面都与7nm相似，那为什么不可以直接叫做7nm芯片呢，其实究其根本，当然是因为它们之间并不完全相同，上面也提到过了性能方面还有待提升。
其次是因为中芯国际所研究出的这种N+1技术，并没有按照惯例使用到EUV光刻机，而是采用特殊技术手段，来达到7nm精度，所以不可以直接将其称之为7nm芯片。
至于说7纳米芯片究竟要何时才能够有所突破，按照梁孟松的一番话，现在公司内部正在实现对N+1芯片的量产，在年末的时候则实现N+2的试产，所以大概率7nm则会放在它们之后发展。
不管怎样中芯国际能够有如今这般的成就，也属实不易，当然不可否认距离世界先进水平还有一段的路要走，但我们要相信在中芯国际科研团队的不断努力之下，一定不会辜负大家对它的期望。
