在我国中芯国际刚宣布突破14nm

在我国中芯国际刚宣布突破14nm
制程芯片量产之后，美国Zyvex
实验室已经制造出0.7nm制程的芯片，而且干脆撇开荷兰ASML的EUV光刻机。实现0.7纳米制程的光刻系统叫ZyvexLitho1TM，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式。基于0.7纳米的芯片可以用于量子计算机，届时将引爆出一系列相应的产业和应用。可以想象的是，将来我们还在使用手机的时候，有人已经通过可植入人体的芯片而且超过了我们手机的效果，可以作为人类大脑的补充代替人类的计算、记忆和搜索功能。
目前先进制程的芯片是3nm，5nm制程的芯片主要应用于手机，我国则只能制造14nm以下的芯片。0.7nm技术使美国保持对台积电领先5年以上的技术优势，领先我国至少15-20年。我国在芯片制造领域受到美国制裁之后，也寻求其他办法绕开EUV光刻机，目前并没有什么实质性进展。
不得不要明白的是，科技进步是要有扎实基础的，是一个台阶一个台阶提升的。基础差距大并不是短时间就能弥补的，而基础差距的弥补不仅仅靠的是是尖端人才。更重要的是教育的体系和思想引领者们教育出大量的愿意为基础工作付出的人才。光刻机并不是我们唯一需要突破的，还需要相应的软件和其他的配套技术。当你手工拼凑出一台信号基站需要用汽车运到各种场景下实验取得实验数据的时候，人家已经可以坐在电脑旁利用相应软件迅速得到这一切，而且比你的更全面，可以反复，更加精确，特别是更容易、在电脑上找到问题所在，相当于农业手工耕作和机器大生产的区别。
中国尖端技术方面任重而道远。